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當(dāng)前位置:產(chǎn)品中心

    紅外光彈顯微鏡

  • 產(chǎn)品規(guī)格

     設(shè)備主要技術(shù)指標(biāo)

    (1)    應(yīng)力雙折射測試分辨率:1nm; 測試精度:2nm;

    (2)    圖像分辨率:1024*1224 像素(應(yīng)力雙折射圖像);2048*2448(原始圖像);

    (3)    物鏡工作距離:7.2mm-60mm; 視場大?。?.1mm-6mm。 (該項指標(biāo)與物鏡倍數(shù)有關(guān),可以選擇/更換);

    (4)    微型爐加熱范圍:室溫-400°C。

    (5)    總重:10Kg以內(nèi);

該設(shè)備用于定量且在線方式測試芯片上的關(guān)鍵部位(如硅通孔周圍)和MEMS器件上的應(yīng)力雙折射分布及其隨溫度的變化規(guī)律,找出應(yīng)力集中點。也可以透視硅基器件內(nèi)部的結(jié)構(gòu),用于失效分析。
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 設(shè)備主要技術(shù)指標(biāo)

(1)    應(yīng)力雙折射測試分辨率:1nm; 測試精度:2nm;

(2)    圖像分辨率:1024*1224 像素(應(yīng)力雙折射圖像);2048*2448(原始圖像);

(3)    物鏡工作距離:7.2mm-60mm; 視場大?。?.1mm-6mm。 (該項指標(biāo)與物鏡倍數(shù)有關(guān),可以選擇/更換);

(4)    微型爐加熱范圍:室溫-400°C。

(5)    總重:10Kg以內(nèi);